路透社报道,在深圳一处高度戒备的实验室中,中国科学家已建成一台可用于制造最先进半导体芯片的原型设备,这是华盛顿多年来极力阻止的技术突破。该原型机于2025年初完成,目前正在测试阶段,已成功产生极紫外光,但尚未生产出可用芯片。该设备由一支曾任职荷兰艾司摩尔(ASML)的前工程师团队打造,通过逆向工程仿制ASML的极紫外光光刻(EUV)设备。EUV技术被视为当前芯片制造的技术制高点,能将电路蚀刻至比人类头发还细数千倍,长期由西方国家垄断。
【中国版曼哈顿计划】
这项突破是中国历时六年国家级计划的成果,目标实现半导体自给自足,由中共中央科技委员会主导,并由习近平亲信、国务院副总理丁薛祥负责统筹。华为扮演关键协调角色,联同全国数千名工程师、国营研究机构与企业,形成庞大技术网络。多名知情人士形容,这项计划堪称中国版的“曼哈顿计划”,目标最终以中国自制设备生产最先进芯片,并将美国“百分之百排除”在供应链之外。
全球仅ASML掌握EUV商用技术,其设备每台造价约2.5亿美元,是英伟达(NVIDIA)、超微(AMD)设计的先进芯片,由台积电(TSMC)、英特尔(INTC)与三星生产的关键设备。ASML执行长Christophe Fouquet今年4月表示,中国要掌握这项技术仍需“很多、很多年”,但这项最新进展显示,中国距离半导体自主化的时间,可能比外界预期更近。
中国的原型机几乎占满整个厂房,体积较ASML设备庞大数倍,以提升功率。最大瓶颈在于精密光学系统,如德国卡尔蔡司(Carl Zeiss)生产的高精度镜片。中国科学院长春光机所(CIOMP)在整合极紫外光进入光学系统方面取得突破,使设备于2025年初运作,但仍需大幅改良。该所今年3月招聘光刻博士研究人员,薪金“不设上限”,研究经费最高400万元人民币,另加100万元人民币个人补助。
【二手市场采购零件+逆向工程】
中国通过二手市场、国际银行拍卖及中介公司取得旧款ASML设备及零件,甚至使用来自日本尼康(Nikon)与佳能(Canon)受出口管制的组件。阿里资产平台直到今年10月仍有旧款ASML光刻设备出售。约百名大学毕业生负责逆向工程EUV与深紫外光(DUV)设备零件,每张工作桌设有摄影机记录拆解与重组过程,成功完成者可获奖金。
【华裔前ASML工程师成猎头目标】
该团队包括近期退休的华裔前ASML工程师与科学家,他们是主要招聘目标。一名受聘工程师获高额签约金(300万至500万元人民币)及假名身份证。进入设施后,他认出多名前ASML同事也以假名工作。高层指示明确,计划属国家安全机密,任何人不得透露正在建造什么,甚至不得透露存在此地。两名现职荷兰华裔ASML员工证实,自2020年起多次遭华为猎才接触。荷兰情报部门4月报告警告,中国利用广泛间谍活动招募西方科学家与高科技员工。
虽然计划由政府主导,但华为深度参与供应链每一环节,任正非定期向高层简报进度。华为派员进驻全国相关办公室、晶圆厂与研究中心,团队成员往往须住在厂区,假日才能回家。负责敏感任务者手机使用受限,内部团队彼此隔离,仅少数人知整体进度。